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          頂立科技新一代氮化鋁真空燒結設備亮相國際先進陶瓷展,現場簽單

          發布時間:2026-03-25發布人:瀏覽:
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          上海先進陶瓷展.png

          2026年3月24日,第十八屆中國國際粉末冶金、硬質合金與先進陶瓷展覽會在上海國家會展中心盛大開幕。作為熱工裝備領域的領軍企業,頂立科技攜新一代氮化鋁(AlN)真空燒結設備亮相展會現場,憑借領先的技術與性能成為全場焦點,并實現了現場訂單簽訂。

          頂立科技上海陶瓷展現場.png

          頂立科技上海陶瓷展現場.jpg

          現場展示的是6615型氮化鋁真空燒結設備,工作區尺寸 600×600×1500mm、最大承載量達800kg、最高工作溫度2050℃,滿足先進陶瓷材料的燒結需求。

          氮化鋁真空燒結爐 (2).jpg

          隨著新一代半導體、5G通信、新能源汽車等產業的快速發展,先進陶瓷材料的需求日益增長。氮化鋁(AlN)陶瓷憑借優異的熱導率、絕緣性和耐高溫性能,成為功率半導體封裝、LED基板等高端器件的首選材料。

          真空燒結設備作為氮化鋁(AlN)陶瓷制備的關鍵裝備,直接決定了陶瓷制品的致密度和力學性能。其工作原理是利用高溫加熱與氣氛控制,使粉體顆粒在高溫下發生擴散與重排,最終形成高導熱、低膨脹系數的陶瓷體。所以對設備的控溫精度、氣氛流場、溫度均勻性及熱場抗侵蝕能力都要求極高。 

          氮化鋁真空燒結爐 (1).jpg

          頂立科技研制的新一代氮化鋁真空燒結設備采用熱流場耦合優化技術,實現大尺寸空間內溫度均勻性≤±3℃,確保陶瓷制品性能的一致性;在節能方面,采用直流加熱結合新型熱場材料與保溫結構,實現功率和溫度的高精度匹配控制,綜合節能效率提升10%以上。

          該設備不僅用于AlN/AlON陶瓷制品的真空燒結與氣氛燒結工藝,還支持AlN/AlON粉體合成及燒結工藝,為半導體產業鏈提供先進陶瓷粉體、制品制備關鍵熱工裝備解決方案,助力我國先進陶瓷產業高質量發展。

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